【on.cc東網專訊】南韓半導體公司SK海力士7年前爆出對華洩露晶片技術案,最高法院周四(12日)作出終審判決,判處一名任SK海力士合作公司高管的被告有期徒刑1年6個月,維持原判。
該高管和其他三名職員涉於2018年將與SK海力士合作時得知的晶片關鍵技術、最新技術及商業機密,洩露至中國競爭企業。他們還涉嫌通過三星電子子公司SEMES前員工獲取圖紙等機密資料,並以對華出口為目的研製相關設備。
因涉嫌違反《關於防止洩露和保護產業技術的法律》和《關於防止不公正競爭和保護商業機密的法律》,該高管被起訴,一審法院判處有期徒刑1年,二審法院則提高量刑至1年半。其餘涉案三人也被判囚1年至1年半不等。
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